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原子层刻蚀（ALE）机理与方法
面向集成电路、传感芯片等元器件的微纳功能结构开展原子层刻蚀机理与方法研究，为我国高端芯片制造、航空航天、核能工程、超精密仪器和量子科技等国家战略发展提供技术支撑，助力新一轮科技革命和产业变革。
面向集成电路、传感芯片等元器件的微纳功能结构开展原子层刻蚀机理与方法研究，为我国高端芯片制造、航空航天、核能工程、超精密仪器和量子科技等国家战略发展提供技术支撑，助力新一轮科技革命和产业变革。